Publikationsdetails

Zitat:	R. Kullmer, Dieter Bäuerle, "Laser-Induced Chemical Etching of Silicon in Chlorine Atmosphere: III. Combined cw- and Pulsed-Irradiation" , in Applied Physics A, Vol. 47, Seite(n) 377-386, 1988, ISSN: 1432-0630
Original Titel:	Laser-Induced Chemical Etching of Silicon in Chlorine Atmosphere: III. Combined cw- and Pulsed-Irradiation
Sprache des Titels:	Englisch
Journal:	Applied Physics A
Volume:	47
Seitenreferenz:	377-386
Erscheinungsjahr:	1988
ISSN:	1432-0630
Anzahl der Seiten:	9
DOI:	10.1007/BF00615502
Reichweite:	international
Publikationstyp:	Aufsatz / Paper in SCI-Expanded-Zeitschrift
Autoren:	R. Kullmer, Dieter Bäuerle
Forschungseinheiten:	Institut für Angewandte Physik

Wissenschaftsgebiete:	Angewandte Physik (ÖSTAT:1203) Experimentalphysik (ÖSTAT:1209) Optik (ÖSTAT:1213) Laserphysik (ÖSTAT:1230) Laserspektroskopie (ÖSTAT:1237) Oberflächenphysik (ÖSTAT:1238) Polymerphysik (ÖSTAT:1239)

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